[发明专利]用于光刻的涂料组合物在审
申请号: | 201910672506.X | 申请日: | 2007-04-11 |
公开(公告)号: | CN110488571A | 公开(公告)日: | 2019-11-22 |
发明(设计)人: | M·K·噶拉格尔;A·赞皮尼 | 申请(专利权)人: | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
主分类号: | G03F7/11 | 分类号: | G03F7/11;G03F7/004;G03F7/027 |
代理公司: | 31100 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 樊云飞<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 在第一方面中,所提供的方法包括:(a)将可固化组合物涂布到基底上;(b)将硬掩模组合物涂布在该可固化组合物之上;(c)将光致抗蚀剂组合物层涂布在该硬掩模组合物之上,其中所述组合物的一种或多种可用无灰化方法除去。在第二方面中,所提供的方法包括:(a)将有机组合物涂布到基底上;(b)将光致抗蚀剂组合物层涂布在该有机组合物之上;其中该有机组合物包含一种当热处理和/或辐射处理时能产生碱溶基团的材料。本发明也提供了一种相关组合物。 | ||
搜索关键词: | 有机组合物 光致抗蚀剂组合物层 可固化组合物 硬掩模组合物 基底 热处理 辐射处理 灰化 碱溶 可用 | ||
【主权项】:
1.一种制备电子器件的方法,包括:/n将可固化组合物涂布到基底上;/n将硬掩模组合物涂布在所述可固化组合物之上;/n将光致抗蚀剂组合物层涂布在所述硬掩模组合物之上,/n其特征在于,所述组合物的一种或多种用无灰化方法除去。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于罗门哈斯电子材料有限公司,未经罗门哈斯电子材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910672506.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种感光性树脂组合物及其用途
- 下一篇:一种基于DMD技术的可视化曝光机
- 具有抗反射性能的硬掩模组合物及用其图案化材料的方法
- 具有抗反射性能的硬掩模组合物及采用该组合物图案化材料的方法
- 用于形成蚀刻剂下层膜且具有改善的储存稳定性的硬掩模组合物
- 用于硬掩模组合物的单体、包含该单体的硬掩模组合物、以及使用该硬掩模组合物形成图案的方法
- 用于硬掩模组合物的单体和包含单体的硬掩模组合物及使用硬掩模组合物形成图案的方法
- 硬掩模组合物的单体、硬掩模组合物及形成图案的方法
- 硬掩模组合物和通过使用该硬掩模组合物形成图案的方法
- 硬掩模组合物和使用所述硬掩模组合物形成图案的方法
- 硬掩模组合物、使用硬掩模组合物形成图案的方法、和由硬掩模组合物形成的硬掩模
- 硬掩模组合物、使用硬掩模组合物形成图案的方法、和由硬掩模组合物形成的硬掩模