[发明专利]曝光方法以及曝光装置有效
| 申请号： | 201910676093.2 | 申请日： | 2019-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN111522204B | 公开（公告）日： | 2023-02-21 |
| 发明（设计）人： | 滨崎正和 | 申请（专利权）人： | 铠侠股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 夏斌 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的实施方式涉及曝光方法以及曝光装置。根据实施方式，首先，生成与曝光区域的对准偏差对应地变更了狭缝宽度的校正曲线。接着，根据上述校正曲线的上述狭缝宽度，设定在各坐标能够得到所期望的曝光量的、载放光掩膜的光掩膜台与载放被加工物的载台之间的相对的曝光扫描速度。然后，按照上述校正曲线与上述曝光扫描速度，一边对曝光狭缝的上述狭缝宽度、上述光掩膜台以及上述载台进行控制，一边执行曝光处理。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 以及 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于铠侠股份有限公司，未经铠侠股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910676093.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
