[发明专利]曝光装置有效
| 申请号： | 201910678844.4 | 申请日： | 2019-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN110865516B | 公开（公告）日： | 2022-07-12 |
| 发明（设计）人： | 水野博文;茂野幸英 | 申请（专利权）人： | 株式会社斯库林集团 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 张敬强;李平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明容易地提高曝光装置的二维图案的曝光精度。曝光装置具备发光部、微透镜阵列部以及传感器部。发光部具有发出光的多个发光区域。微透镜阵列部具有有效区域和非有效区域。有效区域包括分别位于多个发光区域分别所发出的光的路径上的多个微透镜。非有效区域位于有效区域的外侧并包括调整用标识。传感器部具有沿第一方向排列的多个受光元件和沿第二方向排列的多个受光元件。传感器部能够输出调整用光点与调整用标识的相对位置关系的信号，调整用光点是在从发光部发出并通过非有效区域的包括调整用标识的区域的光的路径上，从多个发光区域中的调整用发光区域发出向并非有效区域照射的光所形成的光点。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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