[发明专利]一种显影液过滤器的清洗药剂及清洗方法有效
申请号: | 201910684060.2 | 申请日: | 2019-07-26 |
公开(公告)号: | CN110314555B | 公开(公告)日: | 2022-01-04 |
发明(设计)人: | 肖应东;肖勇辉;徐蓉珊;赖辉 | 申请(专利权)人: | 东莞东元环境科技股份有限公司 |
主分类号: | B01D65/06 | 分类号: | B01D65/06 |
代理公司: | 东莞市华南专利商标事务所有限公司 44215 | 代理人: | 李锦华 |
地址: | 523000 广东省东莞市松山湖高*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及过滤器清洗技术领域,具体涉及一种显影液过滤器的清洗药剂及清洗方法。本发明酸洗过程中,可以使胶团杂质收缩,从而胶团杂质与过滤孔的间隙变大,有利于清洗剂A和后续清洗剂B的渗透,对膜微孔进行更充分的冲洗,同时清洗剂A的升温浸泡可以提升过氧化氢的氧化作用,将胶团杂质氧化成更小的颗粒,从而避免其硬化并粘附在过滤孔壁上。本发明碱洗过程中,陶瓷膜仍残留少量酸洗后的小颗粒的情况下,可以使胶质颗粒发生膨胀,从而提升其与水流的接触面积,提高冲洗效果;此外,在NaClO、十二烷基苯磺酸钠和乙二胺四乙酸二钠以及升温浸泡作用下,膨胀后的胶质颗粒不会凝聚成团,加以反冲洗操作,可以轻易恢复其膜通量。 | ||
搜索关键词: | 一种 显影液 过滤器 清洗 药剂 方法 | ||
【主权项】:
1.一种显影液过滤器的清洗药剂,其特征在于:包括清洗剂A和清洗剂B;所述清洗剂A包括如下组分:H2SO41‑3wt%、H2O21‑3wt‰,余量为水;所述清洗剂B包括如下组分:NaClO3‑5wt%、十二烷基苯磺酸钠1‑3wt‰、乙二胺四乙酸二钠0.5‑1.5wt‰,余量为水。
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