[发明专利]一种钯离子印迹共聚物膜的制备方法以及钯离子印迹共聚物膜的应用有效
申请号: | 201910684733.4 | 申请日: | 2019-07-26 |
公开(公告)号: | CN110538584B | 公开(公告)日: | 2021-07-20 |
发明(设计)人: | 曾坚贤;马溢昌;周虎;刘国清;蹇建;袁正求;刘源 | 申请(专利权)人: | 湖南科技大学 |
主分类号: | B01D71/80 | 分类号: | B01D71/80;B01D69/02;B01D67/00;C02F1/28;C02F1/44 |
代理公司: | 北京劲创知识产权代理事务所(普通合伙) 11589 | 代理人: | 王闯 |
地址: | 411201*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明属于的领域,具体涉及一种钯离子印迹共聚物膜的制备方法以及钯离子印迹共聚物膜的应用,钯离子印迹共聚物膜的制备方法包括如下步骤:(1)双羟基端聚砜的制备:4,4‑二氯二苯砜与双酚A进行亲核缩聚反应制备双羟基端聚砜;(2)大分子链转移剂的合成;(3)三嵌段共聚物的制备;(4)金属‑有机复合物的制备;(5)成膜。本发明制备的钯离子印迹共聚物膜选择性吸附容量大、吸附速度快、使用寿命强,具备较好的膜分离能力和极高的通量,可极大地提高了钯离子的分离效率。本发明制备的非印迹共聚物膜在酸性溶液条件下能对钯离子有很好的特异性选择,钯离子印迹共聚物膜的特异性选择则更高,可以将钯(II)从电镀漂洗废水有效分离。 | ||
搜索关键词: | 一种 离子 印迹 共聚物 制备 方法 以及 应用 | ||
【主权项】:
1.一种钯离子印迹共聚物膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:/n(1)双羟基端聚砜的制备:4,4-二氯二苯砜与双酚A进行亲核缩聚反应制备双羟基端聚砜;/n(2)大分子链转移剂的合成:将双羟基封端聚砜、三硫酯、4-二甲氨基吡啶和无水二氯甲烷加入到反应容器中,然后通入氮气吹扫预定时间后将分散二氯甲烷中的二环己基碳二亚胺滴加到反应容器中反应预定时间,反应后的混合物经纯化后得到大分子链转移剂;/n(3)三嵌段共聚物的制备:将偶氮二异丁腈、4-乙烯基吡啶、N,N-二甲基乙酰胺以及步骤(2)中的大分子链转移剂在氮气氛围下密封反应预定时间得到产物,将产物精细纯化后得到三嵌段共聚物;/n(4)金属-有机复合物的制备:将钯(II)离子与步骤(3)中的三嵌段共聚物充分结合得到所需的金属-有机复合物;/n(5)成膜:将金属-有机复合物单独制备成铸膜液,或将金属-有机复合物与聚砜按预定比例溶解于N,N-二甲基乙酰胺中制备铸膜液;铸膜液静置预定时间释放气泡,然后将铸膜液倒在成型板上并平铺成均匀的薄膜,将迅速浸入去离子水浴中进行膜凝固,除去剩余的溶剂后对钯(II)离子进行洗脱,获得钯离子印迹共聚物膜。/n
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