[发明专利]一种带有金锡焊料的单层电容器的制造工艺在审

专利信息
申请号: 201910693598.X 申请日: 2019-07-29
公开(公告)号: CN110400696A 公开(公告)日: 2019-11-01
发明(设计)人: 关秋云;吴继伟;郝泳鑫;刘溪笔;杨国兴;王迪 申请(专利权)人: 大连达利凯普科技有限公司
主分类号: H01G4/224 分类号: H01G4/224;H01G4/008;H01G4/005;H01G4/12
代理公司: 大连智高专利事务所(特殊普通合伙) 21235 代理人: 马庆朝
地址: 116630 辽宁省大连*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 一种带有金锡焊料的单层电容器的制造工艺,属于电容器及其制造工艺技术领域。技术方案步骤如下:制备陶瓷基片并清洗烘干;在陶瓷基片上下表面形成电极层;在电极层上表面采用磁控溅射的方法形成金锡焊料层;切割并测试分选。有益效果是:本发明所述的带有金锡焊料的单层电容器的制造工艺,该工艺用来提高单层电容器的封装效率,降低封装所用金锡焊料的成本;采用溅射工艺制成的金锡焊料,工艺简单,速度可控,生产成本低,全程无污染,并且所制成的金锡焊料在高温焊接时性能优良,保证了产品的稳定性,适用于工业化生产。
搜索关键词: 金锡焊料 单层电容器 制造工艺 电极层 技术方案步骤 制备陶瓷基片 电容器 生产成本低 磁控溅射 封装效率 高温焊接 清洗烘干 上下表面 速度可控 陶瓷基片 上表面 分选 溅射 封装 切割 测试 全程 保证
【主权项】:
1.一种带有金锡焊料的单层电容器的制造工艺,其特征在于,步骤如下:S1、制备陶瓷基片并清洗烘干;S2、在陶瓷基片上下表面形成电极层;S3、在电极层上表面采用磁控溅射的方法形成金锡焊料层;S4、切割并测试分选。
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