[发明专利]一种离子膜烧碱一次精制盐水除硅铝深度精制的方法在审
| 申请号： | 201910696744.4 | 申请日： | 2019-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN110342548A | 公开（公告）日： | 2019-10-18 |
| 发明（设计）人： | 程雄 | 申请（专利权）人： | 南京纳亿工程技术有限公司 |
| 主分类号： | C01D3/06 | 分类号： | C01D3/06 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人： | 蒋亮珠 |
| 地址： | 211200 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种离子膜烧碱一次精制盐水除硅铝深度精制的方法，该方法包括以下步骤：(1)调节pH使SiO2和Al(OH)3沉淀；(2)添加铁盐溶液，使水解产生具有吸附作用的氢氧化铁，并进行吸附；(3)打入超滤膜系统，截留沉淀并产处精制盐水进入二次盐水精制系统；(4)回收沉淀泥渣作为氧化铁红的生产原料。与现有技术相比，本发明不改变现有一次盐水精制工艺，不影响现有的生产，仅在现有的一次盐水精制工序的最后增加深度精制单元，技改容易实施，且加入的精制剂量少且不会在精制盐水中残留，同时又可以可将硅铝杂质同时去除，操作的宽容度大。 | ||
| 搜索关键词： | 精制 盐水 深度精制 硅铝 离子膜烧碱 一次精制 一次盐水 沉淀 超滤膜系统 沉淀泥渣 二次盐水 精制系统 氢氧化铁 生产原料 铁盐溶液 吸附作用 氧化铁红 宽容度 水解 吸附 去除 截留 残留 回收 生产 | ||
【主权项】：
1.一种离子膜烧碱一次精制盐水除硅铝深度精制的方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：(1)在一次精制盐水A中添加高纯盐酸B，调节至pH＝6‑8，得到含有SiO2沉淀的中性盐水C；(2)将中性盐水C送入反应槽，并添加铁盐溶液D，进行吸附共沉淀反应，得到含有氢氧化铁和氢氧化铝悬浮物的盐水E；(3)将盐水E通过中间槽打入超滤膜系统，使其中的氢氧化铝、氢氧化铁以及被氢氧化铝、氢氧化铁吸附共沉淀的SiO2被超滤膜截留，随超滤膜循环液G排出；超滤膜产水作为精制盐水F进入二次盐水精制系统；(4)超滤膜循环液G部分返回中间槽；部分进入污泥浓缩槽，污泥浓缩槽中的上清液溢流进入中间槽，底流打入污泥脱水设备，脱水后得到泥渣H。
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