[发明专利]半导体存储装置在审

专利信息
申请号: 201910698705.8 申请日: 2019-07-31
公开(公告)号: CN111725234A 公开(公告)日: 2020-09-29
发明(设计)人: 伊藤孝政 申请(专利权)人: 东芝存储器株式会社
主分类号: H01L27/11582 分类号: H01L27/11582;H01L27/1157
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 杨林勳
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 实施方式提供一种能够提升性能的半导体存储装置。实施方式的半导体存储装置包含:多个配线层(22),在第1方向上积层;半导体层(25),在多个配线层(22)内沿第1方向延伸;第1导电层(51),具有设置在多个配线层(22)中的最下层的下方的第1主体部、及从第1主体部向第2方向突出的第1突出部;接触插塞(40),设置在第1导电层(51)的第1突出部上,在多个配线层(22)内沿第1方向延伸;绝缘膜(40A),设置在接触插塞(40)与多个配线层(22)之间;第2导电层(52),具有设置在第1导电层(51)的第1主体部上且与半导体层相接的第2主体部、及设置在第1突出部上且相对于第2主体部突出延伸的第2突出部;以及第1层(56),设置在第1突出部上,与第2突出部及绝缘膜(40A)相接,且在第2突出部与绝缘膜(40A)之间延伸。
搜索关键词: 半导体 存储 装置
【主权项】:
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