[发明专利]一种石墨烯/六硼化镧复合薄膜、制备方法及应用有效
申请号: | 201910702525.2 | 申请日: | 2019-07-31 |
公开(公告)号: | CN110408908B | 公开(公告)日: | 2021-04-20 |
发明(设计)人: | 张琳;慈立杰;赵国庆;徐宙;王新秀 | 申请(专利权)人: | 山东大学 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/455;C23C16/56;C23C14/35;C23C14/06;C23C14/58;H01B5/14;H01B13/00 |
代理公司: | 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 | 代理人: | 张晓鹏 |
地址: | 250061 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本公开属于透明导电隔热薄膜技术领域,具体涉及一种石墨烯/六硼化镧复合薄膜、制备方法及应用。发明人认为,得到一种石墨烯/六硼化镧复合薄膜有望得到一种具有良好光学和电学性能的材料。为了实现该目的,本公开对复合薄膜的制备方法进行了研究,提供了一种可制备优良性能复合薄膜的制备方法,该方法简便易行,并且可以通过参数的改变获取不同能性能的复合薄膜。该方法得到的复合薄膜,具有良好的光学性能,对于入射光线具有一定的选择性,可用于隔热玻璃等产品的制备。另外,该复合薄膜的电阻相比原料实现了显著的降低,将该复合薄膜应用于玻璃基地上,可以显著改善玻璃基底不能导电的技术问题,应用于相关电子元器件的制备具有重要的意义。 | ||
搜索关键词: | 一种 石墨 六硼化镧 复合 薄膜 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
1.一种石墨烯/六硼化镧复合薄膜,其特征在于,所述复合薄膜采用硅或石英玻璃为基底,基底表面具有石墨烯/六硼化镧复合薄膜。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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