[发明专利]光扩散片的制备方法有效

专利信息
申请号: 201910703385.0 申请日: 2019-07-31
公开(公告)号: CN110346855B 公开(公告)日: 2021-08-31
发明(设计)人: 国成立;戴付建;赵烈烽 申请(专利权)人: 浙江舜宇光学有限公司
主分类号: G02B5/02 分类号: G02B5/02;G03F7/20;G03F7/30
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 白雪
地址: 315499 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供了一种光扩散片的制备方法。该的制备方法包括以下步骤:在衬底表面形成光刻胶层,定义光刻胶层具有中心区域和外围区域,外围区域包括n个第一外围区域和n+1个第二外围区域,第一外围区域和第二外围区域均环绕中心区域且交替设置,n为≥1的自然数;对光刻胶层顺序进行曝光和显影,以将中心区域性形成微结构层,并将第一外围区域和第二外围区域形成具有凹槽的防溢胶结构,防溢胶结构环绕微结构层,其中,对中心区域的曝光强度小于对第一外围区域的曝光强度,且对第二外围区域的曝光强度小于对第一外围区域的曝光强度。利用上述防溢胶结构有效地防止在将光扩散片固定在镜头内时可能发生的溢胶情况,避免了溢胶对器件光学性能的影响。
搜索关键词: 扩散 制备 方法
【主权项】:
1.一种光扩散片的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:在衬底(100)表面形成光刻胶层(21),定义所述光刻胶层(21)具有中心区域和外围区域,所述外围区域包括n个第一外围区域和n+1个第二外围区域,所述第一外围区域和所述第二外围区域均环绕所述中心区域且交替设置,n为≥1的自然数;对所述光刻胶层(21)顺序进行曝光和显影,以将所述中心区域性形成微结构层(10),并将所述第一外围区域和所述第二外围区域形成具有凹槽(12)的防溢胶结构(11),所述防溢胶结构(11)环绕所述微结构层(10),其中,对所述中心区域的曝光强度小于对所述第一外围区域的曝光强度,且对所述第二外围区域的曝光强度小于对所述第一外围区域的曝光强度。
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