[发明专利]一种高阈值耐刮擦高透射率的基频激光薄膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910703934.4 申请日: 2019-07-31
公开(公告)号: CN110408070B 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: 邓雪然;雷向阳;杨伟;惠浩浩;马红菊;王天宇;张清华;张剑锋;张帅;高锐 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
主分类号: C08G77/06 分类号: C08G77/06
代理公司: 成都正华专利代理事务所(普通合伙) 51229 代理人: 郭艳艳
地址: 621900*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种高阈值耐刮擦高透射率的基频激光薄膜及其制备方法。其制备方法为:(1)将甲基三甲氧基硅烷、水和乙醇混合,于100~150℃反应15~24h,得溶胶A;(2)将硅氧烷、氨水和乙醇混合,于80~120℃反应20~30h后,冷却至室温,并陈化3~5天,得溶胶B;(3)向溶胶A中加入为其质量百分比10~30%的溶胶B,混合均匀后,以1~2mm/min的速度提拉涂膜,得待固化薄膜;(4)于300~500℃烘烤步骤(3)制得的待固化薄膜20~30h即可。本发明制备得到的激光薄膜具有优异的耐刮擦性能与超高的基频透射率,并具有较高的基频损伤阈值。
搜索关键词: 一种 阈值 耐刮擦高 透射率 基频 激光 薄膜 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种高阈值耐刮擦高透射率的基频激光薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将甲基三甲氧基硅烷、水和乙醇以摩尔比为1~2:2~4:10~12的比例混合,于100~150℃反应15~24h,得溶胶A;(2)将硅氧烷、氨水和乙醇以摩尔比为0.8~1.2:2~3:8~12的比例混合,于80~120℃反应20~30h后,冷却至室温,并陈化3~5天,得溶胶B;(3)向溶胶A中加入为其质量百分比10~30%的溶胶B,混合均匀后,以1~2mm/min的速度提拉涂膜,得待固化薄膜;(4)于300~500℃烘烤步骤(3)制得的待固化薄膜20~30h即可。
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