[发明专利]一种混合PiN结肖特基二极管及制造方法有效
申请号: | 201910707755.8 | 申请日: | 2019-08-01 |
公开(公告)号: | CN110571281B | 公开(公告)日: | 2023-04-28 |
发明(设计)人: | 任娜 | 申请(专利权)人: | 山东天岳电子科技有限公司 |
主分类号: | H01L29/872 | 分类号: | H01L29/872;H01L29/868;H01L21/329 |
代理公司: | 北京君慧知识产权代理事务所(普通合伙) 11716 | 代理人: | 王素花 |
地址: | 250118 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本申请公开了一种混合PiN结肖特基二极管及制造方法,混合PiN结肖特基二极管包括:等离子扩散层和半导体区域;半导体区域设置在外延层表面的下方;半导体区域包括:多个元胞,每一个元胞包括:一个第一区域和多个第二区域;等离子扩散层设置在外延层表面的下方,且等离子扩散层包括多个等离子扩散通道,每一个等离子扩散通道连通两个元胞中的第一区域,并穿过元胞中各第二区域;第一区域、多个第二区域、等离子扩散层与外延层构成混合PiN结肖特基二极管的PN结。本申请能够提高混合PiN结肖特基二极管的抗浪涌电流能力。 | ||
搜索关键词: | 一种 混合 pin 结肖特基 二极管 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种混合PiN结肖特基二极管,其特征在于,包括:等离子扩散层和半导体区域;/n所述半导体区域设置在外延层表面的下方;/n所述半导体区域包括:多个元胞,每一个元胞包括:一个第一区域和多个第二区域;所述第一区域与所述第二区域的在所述外延层中的深度相同,所述第一区域的宽度大于所述第二区域的宽度;/n所述等离子扩散层设置在所述外延层表面的下方,且所述等离子扩散层包括多个等离子扩散通道,每一个所述等离子扩散通道连通两个所述元胞中的所述第一区域,并穿过所述元胞中各所述第二区域;所述第一区域、多个所述第二区域、所述等离子扩散层与所述外延层构成所述混合PiN结肖特基二极管的PN结。/n
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