[发明专利]一种光掩模板保护膜胶印去除的装置及方法有效
申请号: | 201910715989.7 | 申请日: | 2019-08-05 |
公开(公告)号: | CN110426916B | 公开(公告)日: | 2023-07-14 |
发明(设计)人: | 邬治国;徐飞 | 申请(专利权)人: | 常州瑞择微电子科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82;G03F1/48 |
代理公司: | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人: | 张德才 |
地址: | 213000 江苏省常*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种光掩模板保护膜胶印去除的装置及方法,包括移动平台、工作台面、微流体喷头和控制器,移动平台上设置有微流体喷头,移动平台能够带动微流体喷头实现X、Y、Z方向的平移,工作台面用于放置带有保护膜胶印的光掩模板,工作台面位于微流体喷头移动范围的下方。控制器控制移动平台使微流体喷头移动至保护膜胶印处,开启药剂泵与真空泵,控制器根据激光测距仪的数据调整微流体喷头的竖直距离,调控真空泵的转速使喷嘴槽内产生的虹吸效应,移动并对保护膜胶印进行清洗。本发明的微流体喷头在喷嘴槽内形成流动的“液带”,可以持续喷涂新鲜的药剂,同时可以将清洗后的废液及时带走,大大缩短了清洗工艺的时间,高效省时。 | ||
搜索关键词: | 一种 模板 保护膜 胶印 去除 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种光掩模板保护膜胶印去除的装置,其特征在于:包括移动平台、工作台面、微流体喷头和控制器,所述移动平台上设置有所述微流体喷头,所述移动平台能够带动所述微流体喷头实现X、Y、Z方向的平移,所述工作台面用于放置带有保护膜胶印的光掩模板,所述工作台面位于所述微流体喷头移动范围的下方,所述能够使清洗药剂在所述微流体喷头的喷嘴槽内流动,所述控制器与所述移动平台的电机电连接。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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