[发明专利]一种利用电场效应增强加工区域酸碱度的锗平面镜化学抛光方法有效
| 申请号： | 201910716725.3 | 申请日： | 2019-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN110328607B | 公开（公告）日： | 2020-05-29 |
| 发明（设计）人： | 冯凯萍;欧进乾;周兆忠;赵天晨;许庆华 | 申请（专利权）人： | 衢州学院 |
| 主分类号： | B24B37/10 | 分类号： | B24B37/10;B24B37/04;B24B57/02;C09G1/04 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 郑海峰 |
| 地址： | 324000 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种利用电场效应增强加工区域酸碱度的锗平面镜化学抛光方法，制造高介电常数真空吸盘和高介电常数抛光盘，在抛光盘和基盘的非工作端面涂上高温银浆，接上电极，绝缘处理；将锗平面镜真空吸附在多孔陶瓷基盘上，采用化学抛光液进行抛光加工。本方法的抛光原理为使用高介电常数陶瓷抛光盘，在抛光盘和真空吸附陶瓷基盘接上电极后，在抛光区域产生强电场，氢离子或氢氧根离子向工件表面移动，增强了工件表面酸碱度，提高了抛光液对工件表面的腐蚀性，在液动压流体的剪切作用下，对工件表面进行化学非接触抛光。本方法通过电场实现对工件表面的PH值可控，化学非接触抛光提高了工件表面质量，避免表面磨损。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 利用 电场 效应 增强 加工 区域 酸碱度 平面镜 化学抛光 方法 | ||
【主权项】：
1.一种利用电场效应增强加工区域酸碱度的锗平面镜化学抛光方法，其特征在于：步骤1：制备介电常数在1000～5000之间的介电陶瓷抛光盘；步骤2：制备介电常数在1000～5000之间的多孔介电陶瓷真空吸附基盘；步骤3：制备化学抛光液；步骤4：将锗平面镜真空吸附在多孔介电陶瓷真空吸附基盘上，将多孔介电陶瓷真空吸附基盘放置于步骤1所制备的介电陶瓷抛光盘上，滴加抛光液，将电极接通直流电源进行抛光加工。
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