[发明专利]曲面纳米结构的制备方法有效
| 申请号： | 201910719753.0 | 申请日： | 2019-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN110589756B | 公开（公告）日： | 2020-11-10 |
| 发明（设计）人： | 段天利;张锐;王尧;徐康;马续航;瞿学选 | 申请（专利权）人： | 南方科技大学 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 潘霞 |
| 地址： | 518055 广东省深圳市南*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种曲面纳米结构的制备方法。上述曲面纳米结构的制备方法包括如下步骤：在衬底上旋涂电子束抗蚀剂，形成抗蚀层；将抗蚀层进行曝光和显影，得到具有图案的抗蚀层；对衬底和具有图案的抗蚀层进行离子刻蚀，以使抗蚀层被刻蚀，并使衬底上形成曲面凹槽，得到曲面纳米结构。上述曲面纳米结构的制备方法工艺简单且能够得到具有光滑曲面的纳米结构。 | ||
| 搜索关键词： | 曲面 纳米 结构 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种曲面纳米结构的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：/n在衬底上旋涂电子束抗蚀剂，形成抗蚀层；/n将所述抗蚀层进行曝光和显影，得到具有图案的所述抗蚀层；及/n对所述衬底和具有图案的所述抗蚀层进行离子刻蚀，以使所述抗蚀层被刻蚀，并使所述衬底上形成曲面凹槽，得到曲面纳米结构。/n
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