[发明专利]灰阶光罩及显示基板的制作方法有效

申请号：	201910722806.4	申请日：	2019-08-06
公开（公告）号：	CN110568718B	公开（公告）日：	2020-09-01
发明（设计）人：	曹武	申请（专利权）人：	深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号：	G03F1/32	分类号：	G03F1/32;G02F1/1339;G02F1/1333
代理公司：	深圳市德力知识产权代理事务所 44265	代理人：	林才桂;王中华
地址：	518132 广东省深***	国省代码：	广东;44
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摘要：	本发明提供一种灰阶光罩及显示基板的制作方法。所述灰阶光罩包括透光区及包围所述透光区的遮光区，所述透光区包括依次排列的用于形成第一薄膜衬垫的第一透光区与用于形成第二薄膜衬垫的第二透光区，所述第一透光区完全透光，所述第二透光区部分透光；所述第一薄膜衬垫的厚度大于所述第二薄膜衬垫，且所述第二透光区经过防剥离处理，能够使得通过该第二透光区形成的第二薄膜衬垫的四角的厚度至少为其中心的厚度的60％，通过对第二透光区进行防剥离处理，能够有效提升第二薄膜衬垫的成膜稳定性，防止第二薄膜衬垫剥离。
搜索关键词：	灰阶光罩显示制作方法
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【主权项】：

1.一种灰阶光罩，其特征在于，包括透光区(31)及包围所述透光区(31)的遮光区(32)，所述透光区(31)包括依次排列的用于形成第一薄膜衬垫(41)的第一透光区(311)与用于形成第二薄膜衬垫(42)的第二透光区(312)，所述第一透光区(311)完全透光，所述第二透光区(312)部分透光；/n所述第一薄膜衬垫(41)的厚度大于所述第二薄膜衬垫(42)，且所述第二透光区(312)经过防剥离处理，能够使得通过该第二透光区(312)形成的第二薄膜衬垫(42)的四角的厚度至少为其中心的厚度的60％。/n

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