[发明专利]一种用于反应釜的宽禁带半导体纳米瓷釉及搪烧方法在审
| 申请号： | 201910723191.7 | 申请日： | 2019-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN110255907A | 公开（公告）日： | 2019-09-20 |
| 发明（设计）人： | 刘勇;隋永臣;王惠君 | 申请（专利权）人： | 淄博中升机械有限公司 |
| 主分类号： | C03C8/02 | 分类号： | C03C8/02;C03C8/14 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 255000 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于反应釜的宽禁带半导体纳米瓷釉材料，它是由如下重量份数的组分组成：基体剂30～35份，助溶剂12～16份，乳浊剂2～5份，密着剂3～5份，宽禁带半导体纳米粉体30～35份，石墨烯0.2～1份，纳米银粉2～4份。本发明提供的用于反应釜的宽禁带半导体纳米瓷釉及搪烧方法，宽禁带半导体纳米瓷釉，搪烧在食品、制药行业所用反应釜内表面上，由于纳米离子在罐体内产生的负离子微循环气氛，使得反应过程高效、优质、敏捷，达到和超过食品和制药所要求的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 宽禁带半导体 反应釜 瓷釉 搪烧 微循环 纳米粉体 纳米离子 纳米银粉 制药行业 重量份数 负离子 基体剂 密着剂 内表面 乳浊剂 石墨烯 助溶剂 制药 体内 | ||
【主权项】：
1.一种用于反应釜的宽禁带半导体纳米瓷釉材料，其特征在于：它是由如下重量份数的组分组成：基体剂30～35份，助溶剂12～16份，乳浊剂2～5份，密着剂3～5份，宽禁带半导体纳米粉体30～35份，石墨烯0.2～1份，纳米银粉2～4份。
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