[发明专利]发光信号强度控制方法及电子装置在审

专利信息
申请号: 201910724631.0 申请日: 2019-08-07
公开(公告)号: CN110443204A 公开(公告)日: 2019-11-12
发明(设计)人: 张榉馨;曾俊钦;林冠仪 申请(专利权)人: 神盾股份有限公司
主分类号: G06K9/00 分类号: G06K9/00;G06K9/20
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 汪丽红
地址: 中国台湾台北*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种发光信号强度控制方法,适于电子装置。电子装置包含处理元件、发光元件,以及感测模组,其中发光元件包含指纹感测区域,而感测模组安置于指纹感测区域的下方,发光信号强度控制方法包含下列步骤:处理元件依据优化数据控制发光元件的指纹感测区域发出优化照射光束至放置于指纹感测区域上方的手指,优化照射光束经手指反射后,到达感测模组,以产生指纹影像,其中优化照射光束的光信号强度分布是不均匀的,从指纹感测区域的中心至外围至少划分为第一区域以及第二区域,而第一区域的光信号强度小于第二区域的光信号强度。因此,可均匀化感测模组所感测到的光信号强度分布,进而获得良好的光学感测影像品质。此外,一种电子装置亦被提出。
搜索关键词: 感测区域 指纹 电子装置 感测模组 信号强度控制 照射光束 发光 处理元件 第二区域 第一区域 发光元件 强度分布 优化 控制发光元件 光学感测 手指反射 影像品质 优化数据 指纹影像 不均匀 均匀化 感测 外围 安置
【主权项】:
1.一种发光信号强度控制方法,其特征在于,适于电子装置,该电子装置包含处理元件、发光元件,以及感测模组,其中该发光元件包含指纹感测区域,包含多个发光像素,排列成一阵列,而该感测模组安置于该指纹感测区域的下方,该发光信号强度控制方法包含:该处理元件依据优化数据控制该发光元件的该指纹感测区域发出优化照射光束至放置于该指纹感测区域上方的手指,该优化照射光束经该手指反射后,到达该感测模组,以产生指纹影像,其中该优化照射光束的光信号强度分布是不均匀的,其中从该指纹感测区域的中心至外围至少划分为第一区域以及第二区域,而位于该第一区域中的发光像素所发出的光信号强度小于位于该第二区域中的发光像素所发出的光信号强度。
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