[发明专利]硅基微显示屏及其制备方法

摘要

本发明提供了一种硅基微显示屏及其制备方法，所述硅基微显示屏制备方法包括以下步骤：S1：提供一硅基板，在所述硅基板上制备阳极层；S2：在所述硅基板和阳极层上依次蒸镀OLED层、阴极层及保护层；S3：采用黄光工艺及刻蚀工艺在所述阴极层及保护层形成空洞；S4：采用Bosch刻蚀工艺刻蚀空洞下暴露的OLED层，并在刻蚀后的OLED层的侧壁形成保护膜；S5：形成薄膜封装层，所述薄膜封装层覆盖所述保护层及所述硅基板。本发明利用黄光工艺及Bosch刻蚀工艺，防止OLED层被水汽和氧气入侵，延长硅基微显示屏的使用寿命。

主权项

1.一种硅基微显示屏制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1：提供一硅基板，在所述硅基板上制备阳极层；S2：在所述硅基板和阳极层上依次蒸镀OLED层、阴极层及保护层；S3：采用黄光工艺及刻蚀工艺在所述阴极层及保护层形成空洞；S4：采用Bosch刻蚀工艺刻蚀所述空洞下暴露的OLED层，并在刻蚀后的OLED层的侧壁形成保护膜；S5：形成薄膜封装层，所述薄膜封装层覆盖所述保护层及所述硅基板。