[发明专利]等离子体生成装置，包括该装置的基板处理装置，以及等离子体生成装置的控制方法在审
| 申请号： | 201910725903.9 | 申请日： | 2019-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN110828275A | 公开（公告）日： | 2020-02-21 |
| 发明（设计）人： | 奥格森·加尔斯蒂安;金荣斌;具滋明;安宗焕 | 申请（专利权）人： | 细美事有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 韩国忠清南道天安*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种基板处理装置包括：腔室，腔室中具有在其中处理基板的空间；支承腔室中的基板的支承单元；将气体供应到腔室中的气体供应单元；以及将腔室中的气体激发至等离子体状态的等离子体生成单元。等离子体生成单元包括：高频电源；连接至高频电源的一端的第一天线；与第一天线并联连接的第二天线；以及将电流分配至第一天线和第二天线的分流器。分流器包括：设置在第一天线和第二天线之间的第一电容器；与第二天线并联连接的第二电容器；以及与第二天线串联连接的第三电容器。第二电容器和第三电容器用可变电容器来实施。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 生成 装置 包括 处理 以及 控制 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于细美事有限公司，未经细美事有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910725903.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：石英玻璃坩埚和石英玻璃坩埚的制造方法
- 下一篇：多波段雷达天线系统
