[发明专利]背面研磨带在审
申请号: | 201910725933.X | 申请日: | 2019-08-07 |
公开(公告)号: | CN110819249A | 公开(公告)日: | 2020-02-21 |
发明(设计)人: | 龟井胜利;佐佐木贵俊 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | C09J7/29 | 分类号: | C09J7/29;C09J7/24;B24D11/00 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供在切割之后进行的背面研磨工序中使用的背面研磨带,其是防止背面研磨时会产生的芯片缺损的背面研磨带。本发明的背面研磨带依次具备粘合剂层、中间层和第1基材,构成该中间层的材料为具有羧基且未交联的丙烯酸类树脂,将该粘合剂层粘贴在Si镜面晶圆上时的初始粘合力为1N/20mm~30N/20mm。 | ||
搜索关键词: | 背面 研磨 | ||
【主权项】:
暂无信息
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