[发明专利]反射镜和反射镜基底及用于其生产的方法和装置在审
| 申请号： | 201910729737.X | 申请日： | 2019-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN110824692A | 公开（公告）日： | 2020-02-21 |
| 发明（设计）人： | M·舍费尔;M·温伯格;V·塞伯特;T·维斯特尔霍夫 | 申请（专利权）人： | 肖特股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B23/02 | 分类号： | G02B23/02;G02B23/16;G02B7/182 |
| 代理公司： | 北京思益华伦专利代理事务所(普通合伙) 11418 | 代理人： | 赵飞;李敬 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明总体上涉及一种反射镜和反射镜基底，特别是具有高纵横比的反射镜和反射镜基底，以及生产它们的方法和装置。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 基底 用于 生产 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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