[发明专利]微流体通道内的SERS结构、微流体SERS检测方法有效
| 申请号： | 201910731052.9 | 申请日： | 2019-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN110346350B | 公开（公告）日： | 2020-12-25 |
| 发明（设计）人： | 劳召欣;吴东;胡衍雷;褚家如 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | G01N21/65 | 分类号： | G01N21/65;B01L3/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 藏斌 |
| 地址： | 230026 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种SERS基底制备方法、微流体通道内的SERS结构、微流体SERS检测方法。本发明提供的制备方法包括：I)在基底上涂布光刻胶；II)对光刻胶进行三维激光打印、显影和超临界干燥，得到多个设置在基底上且彼此分离的聚合物微结构；III)在聚合物微结构的表面设置SERS功能层；IV)在步骤III)得到的材料上滴加可产生毛细力的液体，之后使液体蒸发，得到具有纳米间隙结构的SERS基底。本发明提供的制备方法既能在平面基底材料，也能在微通道、曲面等非平面基底材料上制备纳米间隙结构；将该制备方法应用到微通道，可在微通道内构建具有纳米间隙的SERS结构，其在微流体SERS检测领域具有良好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 流体 通道 sers 结构 检测 方法 | ||
【主权项】：
1.一种具有纳米间隙结构的SERS基底制备方法，包括以下步骤：I)在基底上涂布光刻胶，形成光刻胶层；II)对所述光刻胶层进行三维激光打印，然后在显影液中显影，之后进行超临界干燥，得到多个设置在基底上且彼此分离的聚合物微结构；III)在所述聚合物微结构的表面设置SERS功能层；IV)在步骤III)得到的材料上滴加可产生毛细力的液体，之后使所述液体蒸发，蒸发过程中彼此分离的聚合物微结构在毛细力诱导下组装成纳米间隙结构，得到具有纳米间隙结构的SERS基底。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学技术大学，未经中国科学技术大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910731052.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：岩屑检测装置
- 下一篇：一种拉曼探针冷热台及其气体环境测试腔组件
