[发明专利]等离子体处理装置和等离子体处理方法有效
| 申请号： | 201910738763.9 | 申请日： | 2016-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN110323121B | 公开（公告）日： | 2022-10-14 |
| 发明（设计）人： | 久保田绅治 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;徐飞跃 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 等离子体处理装置包括：处理容器；载波组生成部，其生成由分别具有彼此不同的频率的多个载波构成的载波组，其中上述频率属于以规定的中心频率为中心的规定的频带；和使用载波组在处理容器内生成等离子体的等离子体生成部。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：处理容器；载波组生成部，其生成由分别具有彼此不同的频率的多个载波构成的载波组，其中所述频率属于以规定的中心频率为中心的规定的频带；和使用所述载波组在所述处理容器内生成等离子体的等离子体生成部，所述载波组在规定的频带中具有400个以上的不同的频率。
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