[发明专利]一种实现连续光解水的钨酸亚锡薄膜的制备方法在审
| 申请号： | 201910741354.4 | 申请日： | 2019-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN110295355A | 公开（公告）日： | 2019-10-01 |
| 发明（设计）人： | 博热耶夫·法拉比;埃泽尔·阿金诺古;冯柯;金名亮;米夏埃尔·吉尔斯西 | 申请（专利权）人： | 肇庆市华师大光电产业研究院 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/08;C23C14/18;C23C14/58 |
| 代理公司： | 广州正明知识产权代理事务所(普通合伙) 44572 | 代理人： | 余敏 |
| 地址： | 526000 广东省肇庆市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明属于钨酸亚锡薄膜制备技术领域，具体涉及一种实现连续光解水的钨酸亚锡薄膜的制备方法，所述制备方法包括采用射频反应磁控溅射法，将反应室抽真空，使其真空度达到4~6×10‑4 Pa，硅片和氧化锡充当基底，通入氩气，反应的压强为1~3Pa，先沉积制备钨酸锡薄膜，然后再采用磁控溅射法镀镍，沉积时间为20~30min，最后在400~600℃下真空退火20~30min。本发明通过在钨酸锡薄膜表面镀镍保护层，从而使薄膜稳定，使其裂解水反应稳定。 | ||
| 搜索关键词： | 钨酸 制备 亚锡 薄膜 连续光 锡薄膜 沉积 射频反应磁控溅射 压强 薄膜制备技术 反应室抽真空 磁控溅射法 氩气 表面镀镍 真空退火 保护层 水反应 氧化锡 硅片 镀镍 基底 裂解 | ||
【主权项】：
1.一种实现连续光解水的钨酸亚锡薄膜的制备方法，其特征在于，采用射频反应磁控溅射法，将反应室抽真空，通入氩气，反应的压强为1~3Pa，先沉积制备钨酸锡薄膜，然后再镀镍，沉积时间为20~30min，最后在400~600℃下真空退火20~30min。
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