[发明专利]一种表面修饰MWNTs的聚酰亚胺膜制备方法在审

专利信息
申请号: 201910743730.3 申请日: 2019-08-13
公开(公告)号: CN110563945A 公开(公告)日: 2019-12-13
发明(设计)人: 王文静 申请(专利权)人: 合肥中汇睿能能源科技有限公司
主分类号: C08G73/10 分类号: C08G73/10;C08K9/02;C08K9/00;C08K3/04;C08J5/18;C08L79/08
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 230000 安徽省合肥*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明涉及聚酰亚胺膜制备技术领域,具体涉及一种表面修饰MWNTs的聚酰亚胺膜制备方法,包括以下步骤:原料干燥、MWNTs预处理、MWNTs表面处理、MWNTs/PAA杂化胶液的制备和成膜,本发明通过超声对碳纳米管MWNTs进行预处理,通过空化作用以及由此形成的局部高温高压作用于MWNTs,破坏MWNTs的分子间作用力,使原本缠结在一起的MWNTs变得松散并打开,芬顿试剂产生的自由基OH·对MWNTs表面的双键进行氧化进攻,在MWNTs的表面上接枝羟基基团,提高MWNTs与基体间的相容性,防止降低薄膜的亚胺化程度,MWNTs的结构保持完整;本发明制得的表面修饰MWNTs的聚酰亚胺膜的介电常数和介电损耗与纯PI膜保持一致,同时拉伸强度和介电强度有了显著的提升。
搜索关键词: 聚酰亚胺膜 预处理 表面修饰 制备 分子间作用力 局部高温高压 制备技术领域 芬顿试剂 结构保持 介电常数 介电损耗 碳纳米管 原料干燥 羟基基团 相容性 亚胺化 自由基 缠结 超声 成膜 胶液 接枝 介电 拉伸 双键 杂化 薄膜 松散
【主权项】:
1.一种表面修饰MWNTs的聚酰亚胺膜制备方法,其特征在于,包括以下步骤:/n1)原料干燥:研磨均苯四甲酸二酐,160℃干燥5h,研磨4,4’-二氨基二苯醚,110℃干燥5h,向N,N-二甲基乙酰胺中加入氢氧化钠,静置20min后减压蒸馏,除去2ml前馏分后收集;/n2)MWNTs预处理:向MWNTs中加入水,超声1h后抽滤,N,N-二甲基乙酰胺洗涤3次,200℃干燥3-5h,研磨粉碎,即得;/n3)MWNTs表面处理:称取FeSO
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