[发明专利]一种直写光刻机的曝光系统在审
| 申请号： | 201910743951.0 | 申请日： | 2019-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN112394619A | 公开（公告）日： | 2021-02-23 |
| 发明（设计）人： | 张柯;李伟成;张雷 | 申请（专利权）人： | 苏州源卓光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215026 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种直写光刻机的曝光系统，其包括光源、匀光装置、中继透镜组、数字微反射镜阵列和曝光镜头，所述光源的光线依次通过所述匀光装置、所述中继透镜组、所述数字为反射阵列和所述曝光镜头，所述光源至少包括第一光源和第二光源，所述第一光源和所述第二光源的波长不同，所述匀光装置采用整合匀光装置，对所述第一光源和所述第二光源发出的光线进行整合匀光。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 曝光 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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