[发明专利]一种改善钨脆性的层状结构材料及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910743995.3 申请日: 2019-08-13
公开(公告)号: CN110331371A 公开(公告)日: 2019-10-15
发明(设计)人: 刘家琴;陈翔;谭晓月;王武杰;吴玉程 申请(专利权)人: 合肥工业大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/16;B32B15/01
代理公司: 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 代理人: 乔恒婷
地址: 230009 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种改善钨脆性的层状结构材料及其制备方法,所述层状结构材料包括基体层和界面层,所述基体层为冷轧W箔,所述界面层为磁控溅射制备的金属Ti层;所述基体层和所述界面层交替堆叠,即每两层基体层W箔之间存在一层金属Ti界面层,并以基体层作为底层和顶层。单层基体层的厚度为90~110μm,单层界面层的厚度为0.4~2μm。本发明采用磁控溅射技术制备Ti界面层,并通过控制镀膜工艺参数制备不同厚度的Ti界面层;优化扩散连接SPS工艺,通过控制作用在样品上的电流密度和相应的温度,以获得具有良好韧性行为的层状W基复合材料。本发明改善W脆性的层状结构材料主要通过界面对能量的消耗和吸收来实现增韧。
搜索关键词: 界面层 基体层 层状结构材料 制备 脆性 单层 磁控溅射技术 金属 磁控溅射 镀膜工艺 交替堆叠 控制作用 扩散连接 复合材料 顶层 冷轧 两层 增韧 消耗 吸收 优化
【主权项】:
1.一种改善钨脆性的层状结构材料,其特征在于:所述层状结构材料包括基体层和界面层,所述基体层为冷轧W箔,所述界面层为磁控溅射制备的金属Ti层;所述基体层和所述界面层交替堆叠,即每两层基体层W箔之间存在一层金属Ti界面层,并以基体层作为底层和顶层。
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