[发明专利]等离子处理装置有效
| 申请号： | 201910746777.5 | 申请日： | 2019-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN110880443B | 公开（公告）日： | 2022-07-08 |
| 发明（设计）人： | 一野贵雅;佐藤浩平;中本和则;横川贤悦 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立高新技术 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴秋明 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供等离子处理装置。使等离子处理装置具备如下要素而构成：真空容器；载置台，其具备在该真空容器的内部载置被处理样品的电极基材、覆盖该电极基材的外周部分的由绝缘性的材料形成的基座环、和绝缘环，该绝缘环被该基座环覆盖并包围电极基材的外周而配置，在上表面和与电极基材的外周对置的面的一部分形成薄膜电极；第1高频电力施加部，其对该载置台的电极基材施加第1高频电力；第2高频电力施加部，其对形成于绝缘环的薄膜电极施加第2高频电力；等离子产生单元，其在真空容器的内部使载置台的上部产生等离子；和控制部，其控制第1高频电力施加部、第2高频电力施加部和等离子产生单元。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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