[发明专利]一种提高区熔单晶均匀性的气掺线圈在审
| 申请号： | 201910748683.1 | 申请日： | 2019-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN110438558A | 公开（公告）日： | 2019-11-12 |
| 发明（设计）人： | 刘凯;郝大维;万静;王遵义;孙健;谭永麟;孙晨光;王彦君 | 申请（专利权）人： | 天津中环领先材料技术有限公司 |
| 主分类号： | C30B13/20 | 分类号： | C30B13/20;C30B13/12;C30B29/06 |
| 代理公司： | 天津滨海科纬知识产权代理有限公司 12211 | 代理人： | 戴文仪 |
| 地址： | 300384 天津市滨海新区*** | 国省代码： | 天津;12 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种提高区熔单晶均匀性的气掺线圈，包括带有线圈眼和以线圈眼为中心的十字切缝的线圈主体，其中一个切缝为长切缝，长切缝延伸至线圈主体外圆边沿并位于线圈主体的两个线圈腿中间，还包括以线圈眼为中心设置于线圈主体内的圆弧形的掺杂气路，掺杂气路位于十字切缝的三个短切缝的外侧，掺杂气路的圆弧形的两个端点对称的位于长切缝的两侧且不与长切缝连接；掺杂气路上等间距设有多个气孔；掺杂气路与设于线圈主体内的进气气路连接。本发明所述的气掺线圈在线圈主体上直接开设掺杂气路，不单独设计气路，掺杂气路上等间距设有多个气孔，可实现均匀出气，保证了掺杂效果的良好，提高了气掺单晶的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 切缝 掺杂气路 线圈主体 均匀性 单晶 掺杂 圆弧形 在线圈主体 进气气路 中心设置 出气 线圈本 线圈腿 短切 气路 外圆 对称 延伸 保证 | ||
【主权项】：
1.一种提高区熔单晶均匀性的气掺线圈，包括线圈主体，所述线圈主体为中心带有线圈眼(1)的圆环形结构，所述线圈主体上开设有以所述线圈眼(1)为中心贯通上下表面的十字切缝(2)，其中一个切缝为长切缝，所述长切缝延伸至所述线圈主体外圆边沿并位于所述线圈主体的两个线圈腿中间，其特征在于：还包括以所述线圈眼(1)为中心围绕所述线圈眼(1)设置于所述线圈主体内的圆弧形的掺杂气路(3)，所述掺杂气路(3)位于所述十字切缝(2)的三个短切缝的外侧，所述掺杂气路(3)的圆弧形的两个端点对称的位于所述长切缝的两侧且不与长切缝连接；所述掺杂气路(3)上等间距设有多个气孔(4)；所述掺杂气路(3)与设于所述线圈主体内的进气气路(5)连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津中环领先材料技术有限公司，未经天津中环领先材料技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910748683.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
