[发明专利]一种利用In-Ga合金蒸发源制备大面积均匀性CIGS薄膜太阳能电池的方法有效
申请号: | 201910749760.5 | 申请日: | 2019-08-14 |
公开(公告)号: | CN110416367B | 公开(公告)日: | 2020-12-01 |
发明(设计)人: | 刘宽菲;张卫彪;任宇航 | 申请(专利权)人: | 尚越光电科技股份有限公司;浙江尚越新能源开发有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/02;H01L31/032;H01L31/0392;C23C14/06;C23C14/24 |
代理公司: | 杭州知见专利代理有限公司 33295 | 代理人: | 赵越剑 |
地址: | 311121 浙江省杭州市余杭区五*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种利用In‑Ga合金蒸发源制备大面积均匀性CIGS薄膜太阳能电池的方法,通过In/Ga混合金属蒸发源替代常规的单质In和单质Ga金属源,使得In和Ga金属在蒸发前就以特定的比例进行混合,并利用实验方式,获得混合金属液体在高温蒸发时的In/Ga喷射比例预测经验公式,确保In、Ga金属按照我们设计的成分比例在基底表面形成CIGS薄膜,从而实现In/Ga混合源长时间大面积镀膜的稳定性,同时实现CIGS薄膜内In和Ga金属分布的均匀性。 | ||
搜索关键词: | 一种 利用 in ga 合金 蒸发 制备 大面积 均匀 cigs 薄膜 太阳能电池 方法 | ||
【主权项】:
1.一种利用In‑Ga合金蒸发源制备大面积均匀性CIGS薄膜太阳能电池的方法,其特征在于,沉积有钼背电极层的钠钙玻璃衬底进入蒸发源室后,采用以下共蒸发工艺中的一种:(1)一步共蒸发工艺在硒气氛中,共蒸镓、铜和铟,使硒、镓、铜和铟沉积于衬底上,(2)两步共蒸发工艺第一步:在硒气氛中,共蒸镓和铟,使硒、镓和铟沉积于衬底上;第二步:在硒气氛中,蒸发铜,使硒和铜沉积于衬底上;(3)三步共蒸发工艺第一步:在硒气氛中,共蒸镓和铟,使硒、镓和铟沉积于衬底上;第二步:在硒气氛中,蒸发铜,使硒和铜沉积于衬底上;第三步:在硒气氛中,共蒸镓和铟,使硒、镓和铟沉积于衬底上;上述共蒸发工艺中镓和铟的蒸发源采用铟镓合金源。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于尚越光电科技股份有限公司;浙江尚越新能源开发有限公司,未经尚越光电科技股份有限公司;浙江尚越新能源开发有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910749760.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种MWT铜铝芯板拼接加工方法
- 下一篇:一种激光SE电池的生产线
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的