[发明专利]一种光刻投影物镜及光刻机有效
申请号: | 201910752924.X | 申请日: | 2019-08-15 |
公开(公告)号: | CN111929806B | 公开(公告)日: | 2021-12-14 |
发明(设计)人: | 安福平;储兆祥 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G02B13/00 | 分类号: | G02B13/00;G02B13/06;G02B13/18;G03F7/20 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: |
本发明实施例提供一种光刻投影物镜及光刻机,所述光刻投影物镜包括沿光轴且由物面指向像面顺次排列的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组和第四透镜组;所述第一透镜组的焦距为f |
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搜索关键词: | 一种 光刻 投影 物镜 | ||
【主权项】:
暂无信息
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