[发明专利]低折射率光学镀膜材料及其应用在审
| 申请号： | 201910753307.1 | 申请日： | 2019-08-15 |
| 公开（公告）号： | CN110456427A | 公开（公告）日： | 2019-11-15 |
| 发明（设计）人： | 秦海波 | 申请（专利权）人： | 北京富兴凯永兴光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/00 | 分类号： | G02B1/00;G02B1/10 |
| 代理公司： | 11255 北京市商泰律师事务所 | 代理人： | 黄晓军<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 102629北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种低折射率光学镀膜材料，属于光学镀膜材料技术领域，所述低折射率光学镀膜材料由二氧化硅和添加剂混合组成；其中，所述添加剂为五氧化二铌、五氧化二钽中的一种或两种，所述低折射率光学镀膜材料的组成为：二氧化硅：90‑99.5wt％，添加剂：0.5‑10wt％。低折射率光学镀膜材料经高温烧结或高温熔融形成。本发明通过引入部分较低折射率的氧化物，如五氧化二铌、五氧化二钽等，在不影响二氧化硅材料折射率的情况下，改变了二氧化硅氧化物的基本性能，提高了二氧化硅的膨胀系数，避免了塑料元件镀膜时膜裂、脱膜的现象的发生。 | ||
| 搜索关键词： | 光学镀膜材料 低折射率 二氧化硅 五氧化二钽 五氧化二铌 添加剂 二氧化硅氧化物 二氧化硅材料 添加剂混合 高温熔融 高温烧结 基本性能 膨胀系数 塑料元件 折射率 氧化物 镀膜 膜裂 脱膜 引入 | ||
【主权项】：
1.一种低折射率光学镀膜材料，其特征在于：所述低折射率光学镀膜材料由二氧化硅和添加剂混合组成；其中，所述添加剂为五氧化二铌、五氧化二钽中的一种或两种。/n
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