[发明专利]表面浮雕光栅结构的制作方法

摘要

本发明提供了一种表面浮雕光栅结构的制作方法。该方法包括基片涂胶、母板压印、压印胶镀膜、压印胶去除以及刻蚀基片的过程，通过在母板直接压印第一光栅结构而得到第二光栅结构，避免了光栅结构制造过程中曝光与显影的过程，从而简化了光栅结构的生产工艺；一个母板先后生产多个子板，多个母板可同时生产多个子板，可以实现光栅结构的批量生产过程。增设压印胶镀膜过程，选择刻蚀速率与基片不同的第一金属膜，在进行基片刻蚀过程时，可以控制离子束的功率而达到精准控制基片刻蚀深度的效果；同时离子束的发射线与基片表面的夹角非直角，使得刻蚀槽面形成倾斜槽面，以得到基片表面形成梯形夹缝的目标光栅结构。

主权项

1.一种表面浮雕光栅结构的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：/n基片涂胶：提供制作所述光栅结构的基片，在所述基片表面涂覆压印胶层得到衬底；/n母板压印：提供光栅母板，所述光栅母板具有若干矩形条状光栅结构，通过纳米压印方式将所述光栅母板压入所述衬底的压印胶层内，使所述光栅母板脱离所述压印胶层，形成第一光栅结构，刻蚀部分压印胶层，得到具有矩形夹缝的第二光栅结构；/n压印胶镀膜：在所述第二光栅结构表面镀上金属膜，使所述金属膜包括镀附于剩余压印胶层表面的第一金属膜层以及镀附于矩形夹缝中且位于所述基片上的第二金属膜层，得到第三光栅结构；/n压印胶去除：去除所述第一金属膜层以及所述剩余压印胶层，得到具有第二金属膜层的第四光栅结构；/n刻蚀基片：采用离子束刻蚀所述第四光栅结构上的第二金属膜层以及所述基片，得到基片表面形成梯形夹缝的目标光栅结构，其中，所述离子束的发射线与所述基片表面的夹角非直角。/n