[发明专利]高频高速挠性电路板制造工艺有效

专利信息
申请号: 201910764537.8 申请日: 2019-08-19
公开(公告)号: CN110418507B 公开(公告)日: 2020-11-06
发明(设计)人: 刘振华;苏章泗;韩秀川 申请(专利权)人: 台山市精诚达电路有限公司
主分类号: H05K3/02 分类号: H05K3/02;H05K3/06;H05K3/24;H05K3/46
代理公司: 深圳市博锐专利事务所 44275 代理人: 郑耀敏
地址: 529200 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了高频高速挠性电路板制造工艺,包括第一层叠结构的制备过程,所述第一层叠结构的制备包括如下步骤,溅镀铜Ⅰ,在第一基材的外侧无铜面溅镀第一铜层;干膜曝光显影Ⅰ,在第一铜层上依次进行贴干膜、曝光和显影,显影后,第一铜层的弯折区干膜保留,非弯折区干膜去除;铜层加厚Ⅰ,对第一铜层的非弯折区进行铜层加厚处理;退膜Ⅰ,去除第一铜层的弯折区干膜。利用溅镀工艺成型的第一铜层与第一基材结合力大,结构稳定性好;溅镀成型的第一铜层的弯折区的厚度可以做得较薄,能够经受多次弯折而不断裂,有效地保证了电路板的挠性及耐弯折性;整个加工过程中,加工精度可控,产品一致性好。
搜索关键词: 高频 高速 电路板 制造 工艺
【主权项】:
1.高频高速挠性电路板制造工艺,其特征在于:包括第一层叠结构的制备过程,所述第一层叠结构的制备包括如下步骤,溅镀铜Ⅰ,在第一基材的外侧无铜面溅镀第一铜层;干膜曝光显影Ⅰ,在第一铜层上依次进行贴干膜、曝光和显影,显影后,第一铜层的弯折区干膜保留,非弯折区干膜去除;铜层加厚Ⅰ,对第一铜层的非弯折区进行铜层加厚处理;退膜Ⅰ,去除第一铜层的弯折区干膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台山市精诚达电路有限公司,未经台山市精诚达电路有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910764537.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top