[发明专利]一种表面等离激元超材料的制备方法

摘要

本发明提供一种表面等离激元超材料的制备方法，属于纳米光子学以及纳米加工技术领域。本发明采用电镀工艺，通过对旋涂光刻胶厚度的控制，实现对金属‑介质‑金属的中的中间介质层厚度的控制，而不同的介质层厚度可作为一种光学腔，并耦合表面等离激元，从而可实现不同的光学响应；同时利用金属的欧姆损耗来增强光学吸收，再结合表面等离激元的电磁能量局限效应，可实现光学近完美吸收(吸收率接近100％)以及高品质因子光学腔，本发明工艺方法简单、稳定并且廉价，可实现大面积加工。

主权项

1.一种表面等离激元超材料的制备方法，其步骤包括：/n(1)在衬底材料上物理气相沉积或化学气相沉积导电薄膜，厚度范围为5-20纳米之间，作为电镀种子层；/n(2)旋涂光刻胶，并通过曝光和显影制备空气介质层图形；/n(3)进行电镀，采用方波脉冲法电镀，电压为1V--100V、占空比为10％--90％、电流为0.001A—1A,填充上述光刻图形；接着再继续电镀，同样采用方波脉冲法电镀，电压为1V--100V、占空比为10％--90％、电流为0.001A—1A，以填充后的光刻图形为种子层横向生长金属薄膜，形成大面积金属薄膜，厚度为100纳米--10微米；/n(4)浸泡于可溶解光刻胶的溶液中，去除残余光刻胶；形成金属-空气介质层-金属结构的腔耦合共振表面等离激元超材料。/n