[发明专利]半导体结构、半导体器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201910768199.5 申请日: 2019-08-20
公开(公告)号: CN110854118B 公开(公告)日: 2022-09-16
发明(设计)人: 张盟昇;杨耀仁 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/112 分类号: H01L27/112;H01L27/02
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;李伟
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 一种结构包括第一字线、位线和反熔丝单元。反熔丝单元包括读取器件、编程器件和伪器件。读取器件包括耦合到第一字线的第一栅极、耦合到位线的第一源极/漏极区以及第二源极/漏极区。第一源极/漏极区和第二源极/漏极区位于第一栅极的相对侧上。编程器件包括第二栅极、耦合到第二源极/漏极区的第三源极/漏极区以及第四源极/漏极区。第三源极/漏极区和第四源极/漏极区位于第二栅极的相对侧上。伪器件包括第三栅极、耦合到第四源极/漏极区的第五源极/漏极区以及第六源极/漏极区。第五源极/漏极区和第六源极/漏极区位于第三栅极的相对侧上。本发明的实施例还涉及半导体结构、半导体器件及其制造方法。
搜索关键词: 半导体 结构 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
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