[发明专利]一种用于3D打印的可见光光引发体系及其应用有效
| 申请号： | 201910768800.0 | 申请日： | 2019-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN110452317B | 公开（公告）日： | 2021-03-16 |
| 发明（设计）人： | 解孝林;赵骁宇;彭海炎;周兴平 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | C08F2/50 | 分类号： | C08F2/50;G03F7/004;B33Y70/00 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 徐瑛 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开一种用于3D打印的可见光光引发体系,由光敏剂和共引发剂组成，所述共引发剂相对于饱和甘汞电极的还原电势为‑1.0～3.0V，在可见光激发下，接受光敏剂的电子，使光敏剂发生光氧化反应；使光敏剂光氧化引发自由基聚合生成的产物具有较低的透光率，防止3D打印平面过度曝光，无需添加额外光吸收剂，即可提升3D打印精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 打印 可见 光光 引发 体系 及其 应用 | ||
【主权项】：
1.一种用于3D打印的可见光光引发体系，其特征在于，由光敏剂和共引发剂组成，所述共引发剂为C1、C2、C3、C4、C5、C6、C7所示结构的一种或几种；/n
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