[发明专利]一种半导体发光器件及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201910772107.0 申请日: 2019-08-21
公开(公告)号: CN110416249A 公开(公告)日: 2019-11-05
发明(设计)人: 戴俊;李志聪;王国宏 申请(专利权)人: 扬州中科半导体照明有限公司
主分类号: H01L27/15 分类号: H01L27/15;H01L27/32;H01L33/00;H01L33/08;H01L51/56
代理公司: 扬州市锦江专利事务所 32106 代理人: 江平
地址: 225009 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种半导体发光器件及其制作方法,属于半导体光电技术领域,在衬底的一侧依次外延生长缓冲层、非故意掺杂GaN层和n型掺杂GaN层,再通过三次沉积绝缘介质掩膜层,间隙地刻蚀出蓝光、绿光和红光发光结构层区域,并在各区域内制作发光结构层,达到了将无机GaN基蓝光和绿光LED与有机红光OLED技术集成,将红、绿、蓝三基色发光单元横向淀积于n型掺杂GaN层之上,并通过n型掺杂GaN层连接的效果。本发明改善了GaN基蓝绿光LED与GaAs基红光LED材料体系难以兼容的问题,提高了Micro LED全彩显示技术中巨量转移的效率,降低了终端产品制作的复杂度。
搜索关键词: 半导体发光器件 发光结构层 制作 红光 蓝光 光电技术领域 材料体系 发光单元 技术集成 绝缘介质 全彩显示 外延生长 终端产品 红光LED 绿光LED 复杂度 缓冲层 蓝绿光 三基色 掩膜层 衬底 淀积 刻蚀 绿光 沉积 半导体 掺杂 兼容
【主权项】:
1.一种半导体发光器件,在衬底上顺序设置缓冲层、非故意掺杂GaN层和n型掺杂GaN层,在n型掺杂GaN层上分别设置n型电极、绝缘介质掩膜层、蓝光LED发光结构层、绿光LED发光结构层和红光OLED发光结构层,在所述蓝光LED发光结构层、绿光LED发光结构层和红光OLED发光结构层表面分别设置p型电极;其特征在于:所述蓝光LED发光结构层、绿光LED发光结构层和红光OLED发光结构层间隔地分布在绝缘介质掩膜层之间;所述蓝光LED发光结构层自下而上包括:InGaN/GaN蓝光多量子阱有源层、电子阻挡层、p型掺杂GaN层和透明导电层;所述绿光LED发光结构层自下而上包括:InGaN/GaN绿光多量子阱有源层、电子阻挡层、p型掺杂GaN层和透明导电层;所述红光OLED发光结构层自下而上包括:第一透明导电层、电子传输层、红光有机发光层、空穴传输层和第二透明导电层。
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