[发明专利]一种半导体发光器件及其制作方法在审
申请号: | 201910772107.0 | 申请日: | 2019-08-21 |
公开(公告)号: | CN110416249A | 公开(公告)日: | 2019-11-05 |
发明(设计)人: | 戴俊;李志聪;王国宏 | 申请(专利权)人: | 扬州中科半导体照明有限公司 |
主分类号: | H01L27/15 | 分类号: | H01L27/15;H01L27/32;H01L33/00;H01L33/08;H01L51/56 |
代理公司: | 扬州市锦江专利事务所 32106 | 代理人: | 江平 |
地址: | 225009 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 一种半导体发光器件及其制作方法,属于半导体光电技术领域,在衬底的一侧依次外延生长缓冲层、非故意掺杂GaN层和n型掺杂GaN层,再通过三次沉积绝缘介质掩膜层,间隙地刻蚀出蓝光、绿光和红光发光结构层区域,并在各区域内制作发光结构层,达到了将无机GaN基蓝光和绿光LED与有机红光OLED技术集成,将红、绿、蓝三基色发光单元横向淀积于n型掺杂GaN层之上,并通过n型掺杂GaN层连接的效果。本发明改善了GaN基蓝绿光LED与GaAs基红光LED材料体系难以兼容的问题,提高了Micro LED全彩显示技术中巨量转移的效率,降低了终端产品制作的复杂度。 | ||
搜索关键词: | 半导体发光器件 发光结构层 制作 红光 蓝光 光电技术领域 材料体系 发光单元 技术集成 绝缘介质 全彩显示 外延生长 终端产品 红光LED 绿光LED 复杂度 缓冲层 蓝绿光 三基色 掩膜层 衬底 淀积 刻蚀 绿光 沉积 半导体 掺杂 兼容 | ||
【主权项】:
1.一种半导体发光器件,在衬底上顺序设置缓冲层、非故意掺杂GaN层和n型掺杂GaN层,在n型掺杂GaN层上分别设置n型电极、绝缘介质掩膜层、蓝光LED发光结构层、绿光LED发光结构层和红光OLED发光结构层,在所述蓝光LED发光结构层、绿光LED发光结构层和红光OLED发光结构层表面分别设置p型电极;其特征在于:所述蓝光LED发光结构层、绿光LED发光结构层和红光OLED发光结构层间隔地分布在绝缘介质掩膜层之间;所述蓝光LED发光结构层自下而上包括:InGaN/GaN蓝光多量子阱有源层、电子阻挡层、p型掺杂GaN层和透明导电层;所述绿光LED发光结构层自下而上包括:InGaN/GaN绿光多量子阱有源层、电子阻挡层、p型掺杂GaN层和透明导电层;所述红光OLED发光结构层自下而上包括:第一透明导电层、电子传输层、红光有机发光层、空穴传输层和第二透明导电层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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