[发明专利]在线优化涂胶显影机热板温度的方法有效

专利信息
申请号: 201910777249.6 申请日: 2019-08-22
公开(公告)号: CN110361940B 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: 官锡俊 申请(专利权)人: 上海华力集成电路制造有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 戴广志
地址: 201315 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种在线优化涂胶显影机热板温度的方法,将一控片送入曝光机,利用曝光机的气态探测功能(AGILE)读取到该控片表面高度;在该控片上涂布光刻胶,并使用涂胶显影机热板进行软烤,将该控片送入曝光机,利用曝光机的气态探测功能读取控片表面高度;两次高度差可以计算出光刻胶在控片上的实际厚度,通过光刻胶软烤温度‑厚度曲线,计算出该热板温度与目标温度差异并进行实时补偿,通过曝光机的气态探测功能实时校准涂胶显影机热板温度。
搜索关键词: 在线 优化 涂胶 显影 机热板 温度 方法
【主权项】:
1.一种在线优化涂胶显影机热板温度的方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一,选取多个控片在涂胶显影机涂布相同的光刻胶,在热板上使用不同的温度进行软烤,通过膜厚量测机台量测每一片控片的光刻胶厚度平均值,从而得到光刻胶软烤温度厚度曲线;步骤二,将控片送入曝光机,利用曝光机的气态探测功能读取到该控片表面高度;步骤三,在控片上涂布光刻胶,并使用涂胶显影机热板进行软烤,然后将该控片送入曝光机,再次利用曝光机的气态探测功能读取控片表面高度;步骤四,通过两次高度差可以计算出光刻胶在控片上的实际平均厚度,通过步骤一中的光刻胶软烤温度厚度曲线,计算出该热板温度变化,与目标温度差异并进行实时补偿。
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