[发明专利]一种钝化接触太阳能电池及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910779112.4 申请日: 2019-08-22
公开(公告)号: CN110473926A 公开(公告)日: 2019-11-19
发明(设计)人: 李宏伟;翁高登;马玉超;何胜;周盛永;徐伟智 申请(专利权)人: 浙江正泰太阳能科技有限公司;海宁正泰新能源科技有限公司
主分类号: H01L31/028 分类号: H01L31/028;H01L31/0216;H01L31/0236;H01L31/068;H01L31/18
代理公司: 11227 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 田媛媛<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 310051 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 本申请公开了钝化接触太阳能电池,包括硅衬底;位于硅衬底的第一表面的隧穿层;位于隧穿层背离硅衬底的表面的本征多晶硅层;位于本征多晶硅层背离隧穿层的表面的掺杂多晶硅层;位于掺杂多晶硅层背离本征多晶硅层的表面的第一钝化层;位于第一钝化层背离掺杂多晶硅层的表面的第一电极;位于硅衬底的第二表面的扩散层;位于扩散层背离硅衬底的表面的第二钝化层;位于第二钝化层背离扩散层的表面的减反层;位于减反层背离第二钝化层的表面的第二电极。在隧穿层和掺杂多晶硅层之间设有本征多晶硅层,可以提高掺杂多晶硅层沉积速率,还可以减少杂质离子向硅衬底扩散,减少硅衬底复合,从而提高光电转换效率。本申请还提供一种具有上述优点的制备方法。
搜索关键词: 硅衬底 掺杂多晶硅层 背离 钝化层 本征多晶硅层 隧穿层 扩散层 减反层 光电转换效率 太阳能电池 第二表面 第二电极 第一表面 第一电极 杂质离子 沉积 钝化 制备 申请 复合 扩散
【主权项】:
1.一种钝化接触太阳能电池,其特征在于,包括:/n硅衬底;/n位于所述硅衬底的第一表面的隧穿层;/n位于所述隧穿层背离所述硅衬底的表面的本征多晶硅层;/n位于所述本征多晶硅层背离所述隧穿层的表面的掺杂多晶硅层;/n位于所述掺杂多晶硅层背离所述本征多晶硅层的表面的第一钝化层;/n位于所述第一钝化层背离所述掺杂多晶硅层的表面的第一电极;/n位于所述硅衬底的第二表面的扩散层;/n位于所述扩散层背离所述硅衬底的表面的第二钝化层;/n位于所述第二钝化层背离所述扩散层的表面的减反层;/n位于所述减反层背离所述第二钝化层的表面的第二电极;/n其中,所述第一表面与所述第二表面相对。/n
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