[发明专利]横向扩散金属氧化物半导体装置有效
申请号: | 201910782041.3 | 申请日: | 2019-08-23 |
公开(公告)号: | CN111211171B | 公开(公告)日: | 2023-06-30 |
发明(设计)人: | 苏柏拉曼亚·加亚谢拉拉欧;陈柏安;韦维克;陈旷举;杨炯仕 | 申请(专利权)人: | 新唐科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 周晓飞;谷敬丽 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供了一种横向扩散金属氧化物半导体装置,包括基板、第一栅极结构、及主动区,其中主动区包含漏极区、源极区、主体区、及第二栅极结构。第一栅极结构形成在基板上并超出主动区,并沿第一方向延伸。漏极区设置在第一栅极结构的第一侧的基板中。源极区及主体区设置在第一栅极结构的第二侧的基板中,第一侧与第二侧相对。第二栅极结构设置在源极区及主体区间。 | ||
搜索关键词: | 横向 扩散 金属 氧化物 半导体 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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