[发明专利]微透镜防伪膜的菲林成型工艺及其真空层压曝光装置

摘要

本发明涉及微透镜防伪膜的菲林成型工艺，包括步骤为：将微图形单元制作成光掩模版并呈阵列式排布，微图形所在区域为不透光区，反之为透光区；将光掩模版含微图形的一面覆盖在菲林前体的感光乳化剂层表面，从光掩模版一侧进行曝光处理，使微图形转印至菲林前体后与光掩模版分离，对菲林前体进行显影、定影处理，经清洗、干燥得带有微图形阵列图文的菲林；在菲林不含微图文的一面设置微透镜层，即得本发明所述的微透镜防伪膜。本发明还提供了用于微透镜防伪膜的菲林成型工艺的真空层压曝光装置，实现了光掩模版和菲林前体快速精准地对位，解决了压合过程中光掩模版和菲林前体由于受力过大而造成毁损的问题，简化了设备，降低了生产成本。

主权项

1.微透镜防伪膜的菲林成型工艺，其特征在于，包括如下步骤：S1、带有微图文的光掩模版的制作根据微缩图文的制作方法，将微图形单元制作成光掩模版，所述微图形在光掩模版上呈阵列式排布，且微图形的蚀刻深度为2‑10um，文字线宽度为3um，微图形所在区域为不透光区，其余部分为透光区；S2、菲林的制作取菲林前体，将步骤S1所制得的光掩模版含有图文的一面覆盖在菲林前体的感光乳化剂层表面，并从光掩模版一侧进行曝光处理，将微图形转印至菲林前体的感光乳化剂层，然后将菲林前体与光掩模版分离，对菲林前体进行显影、定影处理，经清洗、干燥即得带有微图形阵列图文的菲林；所述曝光处理的具体过程为：采用强度为2kw‑30kw的平行的紫外光通过所述光掩模版的透光区照射在菲林前体的感光乳化剂层上，受到紫外光照射的感光乳化剂发生反应，曝光时间2‑180s，未受到紫外光照射的区域，即光掩模版微图形所对应区域不发生反应；曝光结束后，将菲林前体置于烘箱，设置温度100‑120℃，烘烤25‑40min；所述显影的方法为：将烘烤后的菲林前体放入显影液中浸泡至菲林正方两面黑色影像的颜色深度一致，停止浸泡，取出菲林前体，并用清水清洗菲林前体的表面；所述定影的方法为：将显影后的菲林前体放入定影液中浸泡5‑30min，用清水充分清洗菲林前体的表面后风干；S3、微透镜防伪膜的制作取上述S2步骤所制得的菲林，在其不含微图文的一面设置微透镜层，即得本发明所述的微透镜防伪膜。