[发明专利]半导体器件在审

专利信息
申请号: 201910783932.0 申请日: 2019-08-23
公开(公告)号: CN110875305A 公开(公告)日: 2020-03-10
发明(设计)人: 申宪宗;郑圣宪;郭玟灿;郑涌植;池祥源;刘素罗;李斗铉 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L23/48;H01L23/50;H01L23/522;H01L21/768
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 赵南;张帆
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种半导体器件可包括:衬底,包括在第一方向上延伸的有源图案;栅电极,横跨有源图案并在与第一方向交叉的第二方向上延伸;源极/漏极图案,在有源图案上并与栅电极的一侧相邻;有源接触件,在暴露源极/漏极图案的接触孔中;绝缘图案,填充设置有有源接触件的接触孔的剩余空间;第一通孔,在有源接触件上;以及第二通孔,在栅电极上。有源接触件可包括填充接触孔的下部的第一段以及从第一段垂直地突出的第二段。第一通孔连接到第二段。绝缘图案在第一方向上与第二通孔相邻。
搜索关键词: 半导体器件
【主权项】:
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