[发明专利]一种屏缺陷检测方法和系统在审
| 申请号： | 201910791596.4 | 申请日： | 2019-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN110596139A | 公开（公告）日： | 2019-12-20 |
| 发明（设计）人： | 洪志坤;张胜森;欧昌东;郑增强 | 申请（专利权）人： | 武汉精立电子技术有限公司;武汉精测电子集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95;G01N21/94;G01N21/88 |
| 代理公司： | 42224 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 雷霄 |
| 地址： | 430205 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种屏缺陷检测方法和系统。所述屏缺陷检测方法，包括：采用设置在屏前不同角度的第一成像装置和第二成像装置对屏进行连续成像获取第一视图和第二视图；根据所述第一视图和第二视图获取缺陷点，并根据所述第一视图中所述缺陷点到预设参考点的第一距离和所述第二视图中同一所述缺陷点到所述预设参考点的第二距离的比较判断该缺陷点在所述屏的层位置。通过采用上述方法，可以判定缺陷所在层位置,从而对缺陷进行区分处理。 | ||
| 搜索关键词： | 缺陷点 成像装置 缺陷检测 参考点 预设 比较判断 连续成像 区分处理 视图获取 判定 | ||
【主权项】：
1.一种屏缺陷检测方法，其特征在于，包括：/n采用设置在屏前不同角度的第一成像装置和第二成像装置对屏进行连续成像获取第一视图和第二视图；/n根据所述第一视图和第二视图获取缺陷点，并根据所述第一视图中所述缺陷点到预设参考点的第一距离和所述第二视图中同一所述缺陷点到所述预设参考点的第二距离的比较判断该缺陷点在所述屏的层位置。/n
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