[发明专利]高精度全自动双面曝光机在审
| 申请号： | 201910795902.1 | 申请日： | 2019-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN110376853A | 公开（公告）日： | 2019-10-25 |
| 发明（设计）人： | 李明之;朱伟杰;李壮 | 申请（专利权）人： | 爱司凯科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 | 代理人： | 王桂名 |
| 地址： | 510000 广东省广州市中*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种高精度全自动双面曝光机，其包括机架，用于支撑安装曝光机中的各个模块和系统；上框系统，位于机架内部，包括为产品上表面曝光提供图案的上掩膜板；对准系统，包括为产品下表面曝光提供图案的下掩膜板，对准系统用于实现上掩膜版和下掩膜版的精确对准，对准系统设于上框系统的下方；进出料系统，包括进料系统和出料系统，用于对产品的自动进料和自动出料；机械手系统；视觉系统；曝光模块；恒温恒湿模块；控制系统。本发明通过对准系统和视觉系统实现双面曝光机上下掩膜版的对准，能够防止曝光时图案错位，提高曝光质量，通过对准单元能够完成多方向和角度的调整，对准精度高。 | ||
| 搜索关键词： | 对准系统 掩膜版 曝光 对准 双面曝光机 视觉系统 掩膜板 图案 上框 机械手系统 进出料系统 出料系统 对准单元 恒温恒湿 进料系统 控制系统 曝光模块 双面曝光 自动出料 自动进料 多方向 曝光机 上表面 下表面 错位 支撑 | ||
【主权项】：
1.一种高精度全自动双面曝光机，其特征在于：其包括机架，用于支撑安装曝光机中的各个模块和系统；上框系统，位于机架内部，包括为产品上表面曝光提供图案的上掩膜板；对准系统，包括为产品下表面曝光提供图案的下掩膜板，对准系统用于实现上掩膜版和下掩膜版的精确对准，对准系统设于上框系统的下方；进出料系统，包括进料系统和出料系统，用于对产品的自动进料和自动出料；机械手系统，设于进出料系统上方，用于将待曝光的产品从进料系统中搬运到对准系统上，将曝光完成的产品从对准系统搬运到出料系统中；视觉系统，位于对准系统下方，为对准系统提供对准所需的位移量；曝光模块，包括上曝光模块和下曝光模块，上曝光模块安装在上框系统的上方，为产品上表面曝光提供光源，下曝光模块设于对准系统下方，为产品下表面曝光提供光源；恒温恒湿模块，安装在机架上，用于控制曝光机内的温度和湿度；控制系统，用于控制上框系统、对准系统、进出料系统、机械手系统、视觉系统、曝光模块和恒温恒湿模块的协调运行。
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