[发明专利]一种金属偏振片及其制作方法在审
申请号: | 201910797065.6 | 申请日: | 2019-08-27 |
公开(公告)号: | CN110568541A | 公开(公告)日: | 2019-12-13 |
发明(设计)人: | 周倩;倪凯;晁银银;汪伟奇;白本锋;李星辉;王晓浩 | 申请(专利权)人: | 清华大学深圳研究生院 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30 |
代理公司: | 44205 广州嘉权专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 洪铭福 |
地址: | 518000 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种金属偏振片,所述金属偏振片包括基底、介质层和金属层;所述介质层设置于所述基底一侧的表面上,所述金属层设置于所述介质层远离所述金属层一侧的表面上;所述介质层包括介质薄层、光栅介质层;所述介质薄层厚度为0.04~0.06μm。本发明还提供一种金属偏振片的制作方法。本发明所提供的金属偏振片可在小范围改变透过率变化的基础上,大幅度增加消光比。 | ||
搜索关键词: | 介质层 偏振片 金属层 金属 薄层 基底 透过率变化 光栅介质 消光比 制作 | ||
【主权项】:
1.一种金属偏振片,其特征在于,所述金属偏振片包括基底、介质层和金属层;/n所述介质层设置于所述基底一侧的表面上,所述金属层设置于所述介质层远离所述金属层一侧的表面上;/n所述介质层包括介质薄层、光栅介质层;/n所述介质薄层厚度为0.04~0.06μm。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学深圳研究生院,未经清华大学深圳研究生院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910797065.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。