[发明专利]一种金属偏振片及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201910797065.6 申请日: 2019-08-27
公开(公告)号: CN110568541A 公开(公告)日: 2019-12-13
发明(设计)人: 周倩;倪凯;晁银银;汪伟奇;白本锋;李星辉;王晓浩 申请(专利权)人: 清华大学深圳研究生院
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30
代理公司: 44205 广州嘉权专利商标事务所有限公司 代理人: 洪铭福
地址: 518000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种金属偏振片,所述金属偏振片包括基底、介质层和金属层;所述介质层设置于所述基底一侧的表面上,所述金属层设置于所述介质层远离所述金属层一侧的表面上;所述介质层包括介质薄层、光栅介质层;所述介质薄层厚度为0.04~0.06μm。本发明还提供一种金属偏振片的制作方法。本发明所提供的金属偏振片可在小范围改变透过率变化的基础上,大幅度增加消光比。
搜索关键词: 介质层 偏振片 金属层 金属 薄层 基底 透过率变化 光栅介质 消光比 制作
【主权项】:
1.一种金属偏振片,其特征在于,所述金属偏振片包括基底、介质层和金属层;/n所述介质层设置于所述基底一侧的表面上,所述金属层设置于所述介质层远离所述金属层一侧的表面上;/n所述介质层包括介质薄层、光栅介质层;/n所述介质薄层厚度为0.04~0.06μm。/n
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