[发明专利]微带贴片天线制造公差对电性能影响的区间分析方法

摘要

本发明涉及微带贴片天线制造公差对电性能影响的区间分析方法，电性能至少包括谐振频率区间，该方法至少包括以下步骤：S1，确认制造参数的区间，其中，制造参数为微带贴片天线的长度、微带贴片天线的宽度、微带贴片天线的厚度或者微带贴片天线的介电常数；S2，计算介质基片的有效介电常数或者有效介电常数区间，将涉及的参数替换为相应的参数的区间：S3，计算辐射缝隙的长度或长度区间，将涉及的参数替换为相应的参数的区间：S4，计算谐振频率区间，将涉及的参数替换为相应的参数的区间。本发明提供的微带贴片天线制造公差对电性能影响的区间分析方法不需要进行大量的分析和计算，可以节省计算时间和计算资源。

主权项

1.微带贴片天线制造公差对电性能影响的区间分析方法，其特征在于，所述电性能至少包括谐振频率区间，至少包括以下步骤：/nS1，确认制造参数的区间，其中，制造参数为微带贴片天线的长度、微带贴片天线的宽度、微带贴片天线的厚度或者微带贴片天线的介电常数；/nS2，参考下列公式计算介质基片的有效介电常数或者有效介电常数区间，将涉及的参数替换为相应的参数的区间：/n /nS3，按照下面公式计算辐射缝隙的长度或长度区间，将涉及的参数替换为相应的参数的区间：/n /nS4，按照下面公式计算谐振频率区间，将涉及的参数替换为相应的参数的区间：/n /n式中，c表示光速，且c＝299792458m/s，f表示工作频率，ε_r表示介质基片的相对介电常数，ε_e表示有效介电常数，h代表介质基片的厚度，W代表微带贴片天线贴片的宽度，Δl表示辐射缝隙的长度，L代表微带贴片天线贴片的长度。/n