[发明专利]一种保护膜框架及其制备方法及保护膜组件

摘要

本发明提供一种保护膜框架及其制备方法及保护膜组件，保护膜框架包括框架结构以及包覆在框架结构表面的包覆层，包覆层包括铬层或者二氧化钛层。包覆层包覆在框架结构的表面，因此将框架结构中的酸根/氨根离子(SO42‑、PO43‑及NH4+)包裹住，使其与外界隔绝，从而杜绝上述酸根/氨根离子(SO42‑、PO43‑及NH4+)在光刻机曝光中或曝光后存放期间释出，进而避免光掩膜版不定时产生白雾状(Haze)。上述保护膜框架避免了光掩膜版产生白雾状，因此能够有效避免有白雾的光掩膜版在成基片的重复性缺陷，进而可以提高基片的良率。