[发明专利]一种太阳能电池片及其制作方法有效
申请号: | 201910802827.7 | 申请日: | 2019-08-28 |
公开(公告)号: | CN110444637B | 公开(公告)日: | 2021-09-28 |
发明(设计)人: | 马玉超;曾鑫林;单伟;何胜;徐伟智 | 申请(专利权)人: | 浙江正泰太阳能科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/67;H01L31/0216;H01L31/068 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 田媛媛 |
地址: | 310051 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本申请公开了太阳能电池片的制作方法,包括:在第一温度和预设压强下,在表面具有损伤层的硅片的表面形成二氧化硅层,得到处理后硅片;将处理后硅片在第二温度下恒温预设时间,并进行冷却处理,得到冷却后硅片;去除位于冷却后硅片的表面的二氧化硅层和损伤层,得到硅片基体;在硅片基体的上表面形成扩散层;在扩散层的上表面形成隧穿层;在硅片基体的下表面形成钝化层;在钝化层的下表面形成氮化硅层;在隧穿层的上表面形成减反层;分别在减反层的上表面、氮化硅层的下表面形成电极。本申请中的方法使硅片基体中杂质含量明显减少,提高少子寿命,从而提高太阳能电池的光电转换效率。本申请还提供一种具有上述优点的太阳能电池。 | ||
搜索关键词: | 一种 太阳能电池 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种太阳能电池片的制作方法,其特征在于,包括:在第一温度和预设压强下,在表面具有损伤层的硅片的表面形成二氧化硅层,得到处理后硅片;将所述处理后硅片在第二温度下恒温预设时间,并进行冷却处理,得到冷却后硅片;去除位于所述冷却后硅片的表面的所述二氧化硅层和所述损伤层,得到硅片基体;在所述硅片基体的上表面形成扩散层;在所述扩散层的上表面形成隧穿层;在所述硅片基体的下表面形成钝化层;在所述钝化层的下表面形成氮化硅层;在所述隧穿层的上表面形成减反层;分别在所述减反层的上表面、所述氮化硅层的下表面形成电极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的